ダフナ・カフマン、シヴィリア・レヴェンソン「カモフラージュはしない」展

NEWSText: Aya Shomura

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“Fig.3”, Dafna Kaffeman, 2014, Photo: Shai Halevi

サンフランシスコのクラフト&デザイン博物館にて、ダフナ・カフマンとシヴィリア・レヴェンソンによる、考えさせられる内容の展覧会「カモフラージュはしない。」が、9月26日から開催される。

本展では、グラスファイバーと異素材を組み合わせ、社会性・政治性メッセージの強い作品を生み出す2名の作家の作品を紹介。

どちらの作家も自身を「悪」を見つけて治療を行なうシャーマンとして捉え、両者のせめぎ合いは群衆的というよりは非常に個人的な問題であると強調する作品を展示している。

2003年以来、カフマンは犠牲や悲しみ、記憶といった重荷を負うイスラエルを拠点に、その複雑な社会と政治的問題を扱ってきた。またレヴェンソンの初期作品は、愛、家族そして幸福という強迫観念という自叙伝的なものである。

Without Camouflage. Dafna Kaffeman. Sivlia Leveson
会期:2015年9月26日(土)〜2016年3月27日(日)
時間:11:00~18:00(木曜日18:00まで、日曜日12:00~17:00)
休館日:月曜・祝日
会場:The Museum of Craft and Design
住所:2569 3rd St, San Francisco
入場料:一般 $8、シニア&学生 $6、12歳以下無料
TEL:+1 415 773 0303
http://www.sfmcd.org

Text: Aya Shomura

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